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- [实用新型]一种可降低蒸镀阴影现象的通用金属掩模版-CN202121892420.7有效
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潘燕萍
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江苏乐萌精密科技有限公司
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2021-08-13
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2022-12-16
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C23C14/04
- 本实用新型公开了一种可降低蒸镀阴影现象的通用金属掩模版，属于掩模网制作领域。本实用新型的一种可降低蒸镀阴影现象的通用金属掩模版，包括金属框和张网焊接在金属框上的掩模网，掩模网上设有若干矩形开口，掩模网上位于矩形开口的四周设有半蚀刻区，掩模网的厚度d为100μm～200μm，半蚀刻区的半纵深d1为20μm～40μm；进一步地，掩模网的厚度d为100μm或150μm或200μm；掩模网的厚度越大，则半蚀刻区的半纵深越深。本实用新型在半蚀刻区的厚度与掩模网的厚度之间找到了最佳平衡点，既避免了因掩模网厚度过大而引起的蒸镀阴影，又有效抑制了半蚀刻区的翘曲变形而引起的蒸镀阴影，大大改善了掩模网蒸镀时出现的边缘阴影现象，提高了OLED面板的蒸镀精度。
- 一种降低阴影现象通用金属模版
- [发明专利]掩膜装置-CN202110100890.3有效
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董耀龙;韩冰;邹敏;臧公正
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昆山国显光电有限公司
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2021-01-26
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2022-07-22
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C23C14/04
- 通过全厚区表面与半刻区表面形成的至少部分弧形导流通道可以对半刻区中易积留液体位置处的液体进行导流，可以使液体自由流动不会积留在固定某处，便于通过风吹处理将清洗掩膜装置后残留的药液排出掩膜装置，使药液不会残留在半刻区内从而避免采用掩膜装置蒸镀发光层的发光材料时，残留在半刻区内的药液混入到发光材料中，导致蒸镀形成的发光层的发光特性因药液的混入受影响。保证采用该掩膜装置蒸镀发光层的OLED显示装置不会出现因蒸镀工艺中药液混入发光材料而导致的显示异常。
- 装置
- [发明专利]蒸镀机内部光电对位装置-CN202210338711.4在审
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王俊伟
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昆明申北科技有限公司
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2022-04-01
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2022-07-15
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C23C14/24
- 蒸镀机内部光电对位装置，涉及真空镀膜技术领域。本发明的蒸镀机内部光电对位装置，其特征在于该对位装置包括外壳、照明系统、半反半透式光路、准直激光器和电源，照明系统设置在外壳上部，半反半透式光路设置在外壳内部，准直激光器水平设置在外壳一端，外壳另一端设置有出口光阑本发明的蒸镀机内部光电对位装置，设计科学，使用方便，结构合理，操作人员通过调整半反半透式光路位置，将LED光源发出的光线进入遮挡机构，并照射在晶振片上，并可以通过观察口直接观察或外接CCD以呈现光照效果和位置
- 蒸镀机内部光电对位装置
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